Materials Preparation

Main specifications

1. 配备两级真空泵，极限真空度优于8x10-8 Torr

2. 配备直流，射频和磁性增强共4个3英寸圆形共焦溅射靶枪

3. 直流输出功率1200瓦，射频600瓦

4. 配备直径8英寸射频偏压工件台，可兼容4/6英寸样品

5. 薄膜沉积均匀性片内优于±5%，片间优于±3% （6 英寸基片范围）

Main functions

1. 采用向下溅射方式

2. 配备Load-lock （预真空室）送样方式

3. 采用Windows计算机全自动操作系统，图形化显示及记录所有系统运行数据

Notes

设备仅接受送样，仅限于电子束蒸发金属镀膜，送样请注明镀膜金属材料名称及镀膜厚度。